Member

photographer, Founder

Kazune Kogure小暮 和音

History
1990
東京生まれ
2013
日本大学芸術学部写真学科卒業
アマナグループ株式会社Vda入社　吉田明広氏に師事
2014
株式会社PARADE設立と共に参加　 坂本覚氏に師事
2015
アマナグループ退社
2016
小暮和音写真事務所を設立
2019
株式会社コントラスト（CONTRAST Inc.）を設立
Award

APAアワード2013•2015•2017写真作品部門　入選

APAアワード2016広告作品部門　入選

APAアワード2022広告作品部門　審査委員 北島明賞

Retoucher, Chief Operating Officer

Takumu Koshiba小柴 託夢

History
1990
東京生まれ
2013
日本大学芸術学部写真学科卒業
株式会社博報堂プロダクツ REMBRANDT入社
2022
株式会社博報堂プロダクツ REMBRANDT退社
株式会社コントラスト（CONTRAST Inc.）入社
Award

APA アワード 特選賞/優秀賞

The One Show Merit

NY ADC賞 Merit

D&AD賞 Wood Pencil

クリオ Bronzeニューヨークフェスティバル Gold

ADFEST Bronze

新聞広告賞 大賞

ACC グランプリ

Photographer

Masaki Kawamura川村 将貴

History
1993
北海道生まれ
2016
日本大学芸術学部写真学科卒業
2017
小暮和音写真事務所に参加 小暮和音氏に師事
2020
アマナグループに所属
2023
株式会社コントラスト（CONTRAST Inc.）に参加

Assistant Photographer

Takahiro Murakami村上 貴滉

History
1998
福岡生まれ
2021
日本大学芸術学部写真学科卒業
株式会社コントラスト（CONTRAST Inc.）入社　小暮和音氏に師事

Photographer(Partner)

Ryoma Shoumura正村 僚麻

History
1994
岐阜生まれ
2017
株式会社シェーンに参加　飛知和正淳氏に師事
2018
日本大学芸術学部写真学科卒業。株式会社シェーン退社。小暮和音写真事務所に参加　小暮和音氏に師事
2019
株式会社コントラスト（CONTRAST Inc.）設立と共に参加
2021
フォトグラファーとして活動

Assistant Photographer(Internship)

Shiho Onozawa小野澤 志穂

History
2000
埼玉生まれ
2019
日本大学芸術学部写真学科入学
2022
株式会社コントラスト（CONTRAST Inc.）に参加